在VAT，我們的使命是“InnoVATion不懈創新，創造美好前景” 在過去50年中，創新一直是推動VAT發展的源動力，使我們在真空閥門及其應用領域贏得了*地位。再加上**工程實踐，激勵著VAT的所有員工為樂趣而工作！從始建于1964年，VAT一直致力于真空閥門技術。我們的責任是成為*各地真空閥門領域的客戶的*好合作伙伴。

VAT真空閥門公司主要產品包括：插板閥、蝶閥、傳送閥、隔膜閥、角閥等，特別是高靈敏度的控制閥。VAT真空閥門的產品主要服務于微電子工業、核工業、科研機構等高科技領域，全*很多大學和科研機構以及大部分的半導體芯片制造企業都采用VAT公司的產品。 真空閥門技術主要用于以下幾個方面： - 半導體和平面屏幕制造 - 玻璃和刀具涂層 - 冶金，表面分析 - 高能物理學 - 同步加速器 - 激光技術 - 模擬太空旅行 - Solar technology 眾多的應用程序需要配置的真空閥門具有*選擇性。VAT可以提供*上**的選擇：超過*0種標準產品可以從我們的產品目錄中找到。但這還遠遠不夠，我們早已清楚的認識到，自己不**是提供現貨的閥門供應商。我們還與客戶一起合作，生產特種閥門和集成閥門系統。 VAT已發展并在知名的密封技術方面獲得了*，如VATLOCK，VATRING和MONOVAT。我們的閥門是用于真空生產和研究設施的標準組件。這些設施由于不斷進步演變更加復雜，因此對于密封技術的要求也越來越高。我們的產品需要在持續的基礎上不斷完善和發展，以支持我們客戶的創新項目。 VAT產品特點: 71系列全金屬閘閥 適用范圍：用作同步加速器和顆粒加速器存儲環中的扇形閥。 特殊的RF孔徑可*大限度地降低打開閥門位置的RF電阻，并在法蘭之間提供電氣接觸。 存儲環的扇區可以密封隔離。 描述：RF全金屬閘閥采用獲得*的VATRING密封系統和RF孔徑。 用作同步加速器和顆粒加速器存儲環中的扇形閥。 客戶指定的射頻孔徑具有低RF阻抗，并且在法蘭之間的電接觸處于打開的閥門位置。 提供擴展或緊湊雙作用氣動執行器。 在開啟和關閉位置可烘烤至300°C。 自鎖在打開和關閉位置。 耐輻射。